90纳米光刻机能做几纳米芯片

90纳米光刻机主要用于制造90纳米及更大尺寸的芯片。这种设备通过紫外光源将电路图案转移到硅片上，能够生产65纳米、45纳米工艺的芯片，甚至可以勉强做到32纳米节点。英特尔早期Core 2处理器、AMD Athlon 64 X2等CPU都是使用90纳米光刻机制造的。台积电、三星等晶圆厂曾用这类设备生产逻辑芯片、闪存和各种微控制器，满足当时消费电子和计算机市场的需求。

现代芯片制造依赖更先进的光刻技术。90纳米设备无法直接生产7纳米、5纳米等先进制程芯片。这些尖端芯片需要极紫外光刻(EUV)技术，ASML的NXT系列光刻机才能完成。苹果A15仿生芯片、高通骁龙8 Gen1处理器都是7纳米以下工艺，台积电和三星使用的是7纳米、5纳米甚至3纳米制程。这些先进芯片拥有数十亿晶体管，性能远超90纳米时代的产物，支撑着当今智能手机、高性能计算和人工智能应用。