光栅的制作方法

光栅制作需要精密设备和严格工艺。现代光栅通常通过全息干涉法制造，激光束分束后形成干涉条纹，涂有光刻胶的玻璃基板暴露在干涉场中，显影后形成周期性凹槽结构。另一种方法是机械刻划法，钻石刀具在铝膜表面精确刻划出每毫米数百条平行线槽，需要环境温度控制在0.01℃以内。全息光栅衍射效率可达95%，适合光谱分析；刻划光栅分辨率更高，适用于精密仪器。

光栅制作质量控制涉及多个环节。光刻胶厚度控制在100纳米至10微米之间，均匀性偏差不超过5纳米。显影过程时间精确到秒级，温度波动控制在0.5℃内。铝膜反射率要求达到98%以上，刻划深度误差控制在1纳米范围内。成品光栅需通过衍射效率测试、杂散光检测和分辨率评估三项关键指标，合格率约为85%。高精度光栅在半导体制造中能将光束聚焦到0.1微米精度。