光刻机的原材料是什么

光刻机主要由高纯度硅、石英玻璃、特殊合金和精密陶瓷构成。硅材料经过提纯达到电子级纯度，用于制造光学元件和电路基板。石英玻璃需要极低的热膨胀系数，确保光路稳定性。特殊合金如殷钢用于机架结构，减少变形。精密陶瓷如氧化铝提供支撑和绝缘功能。这些材料经过严格筛选，确保杂质含量低于十亿分之一，满足半导体制造的高精度要求。

光刻机的光学系统依赖氟化钙晶体和熔融石英，前者用于深紫外光路，后者用于透镜基板。金属部件多采用铝合金和钛合金，兼顾轻量化与刚性。涂层材料如氟化镁增强反射率，多层镀膜技术提升光学效率。密封件使用氟橡胶和聚四氟乙烯，防止污染。冷却系统依赖去离子水和乙二醇混合液，维持设备恒温。这些材料组合确保光刻机在纳米级精度下稳定运行。