什么是磁控溅射

磁控溅射是一种精密薄膜制备技术，利用高能离子轰击靶材，使靶材原子沉积在基板上。这项技术在半导体工业中广泛应用，用于制造芯片上的导电层和绝缘层。溅射过程中，磁场控制电子轨迹，提高溅射效率。显示器制造也依赖此技术，形成透明导电膜。汽车工业用它生产防反射涂层，增强玻璃性能。医疗领域应用包括植入物表面的生物相容性涂层。

磁控溅射设备包含真空腔、靶材和基板系统。工艺参数如功率、气压和温度直接影响薄膜质量。镀膜厚度可精确控制在纳米级，满足精密光学元件需求。太阳能电池生产中，该技术制造高效吸收层。工业刀具表面涂层使用磁控溅射，提高硬度和耐磨性。电子设备中的防电磁屏蔽层也通过此方法制备，确保信号稳定传输。