时间:09-18人气:26作者:搬砖小土妞
芯片靶材是半导体制造中的关键材料,用于物理气相沉积工艺。这些高纯度金属或合金材料通过溅射形成薄膜,覆盖在硅片表面。常见的靶材包括铝、铜、钛、钨等金属,以及各种合金。靶材纯度要求极高,达到99.999%以上,以确保薄膜质量。靶材尺寸从200毫米到300毫米不等,厚度在5-10毫米之间。这些材料经过特殊处理,具有均匀的晶体结构,保证溅射过程的一致性。
芯片靶材的性能直接影响芯片的电学特性。靶材的密度、晶粒大小和表面平整度都会影响薄膜的均匀性和导电性。现代芯片制造中,复合靶材如钛钨合金、氮化钛等应用广泛。靶材制备需要精确控制温度和压力,确保材料性能稳定。靶材的使用寿命一般在50-200小时之间,具体取决于工艺参数。随着芯片制程不断缩小,对靶材的要求也越来越高,推动了材料科学的发展。
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