光刻机需要用到激光技术吗

光刻机确实需要用到激光技术，特别是深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻系统中。激光在光刻过程中用于精确控制光源，确保晶圆上的电路图案达到纳米级精度。激光干涉仪测量系统确保工件台移动精度达到皮米级别，这对于现代芯片制造至关重要。激光还用于光刻机中的对准系统，确保不同层电路图案精确重叠。没有激光技术，现代光刻机无法实现7纳米及以下工艺节点的制造要求。

激光技术在光刻机的多个子系统中有具体应用。激光束用于生成EUV光源，通过将锡液滴加热至等离子体状态产生13.5纳米波长的光。激光测量系统实时监控晶圆温度变化，确保曝光一致性。激光还用于光刻机的检测系统，扫描晶圆表面缺陷。激光清洗系统定期清洁光学元件，维持设备性能。激光技术使光刻机能够在单次曝光中处理更多晶体管，提高芯片性能。