薄膜干涉检测平面是否平整原理

薄膜干涉检测平面平整度利用光波在薄膜上下表面反射时产生的干涉现象。当单色光照射到薄膜上，反射光相遇形成明暗相间的干涉条纹。平整表面呈现均匀条纹，任何微小起伏都会导致条纹扭曲或间距变化。实际检测中，钠光灯发出的黄光常用于照明，干涉条纹宽度直接反映平面平整度，条纹越直越均匀，表面越平整。这种方法能检测出纳米级别的起伏，精度极高。

现代薄膜干涉检测系统结合数字图像处理技术，自动分析条纹模式。激光光源提供相干性更好的光束，提高测量精度。设备通过计算条纹曲率半径确定表面缺陷大小和位置，检测结果可直接显示在计算机屏幕上。工业生产中，这种方法广泛应用于光学元件、半导体晶圆等高精度表面的质量检测，单次测量可在几秒内完成，效率远超传统接触式测量。