中国光刻机达到什么精度了

中国光刻机技术已实现28纳米工艺量产，上海微电子装备生产的SSA800/10W光刻机达到这一水平。国内企业中芯国际在北京工厂使用国产设备完成28纳米芯片制造。合肥长鑫存储运用国产光刻机生产19纳米DRAM芯片，展示技术突破。华虹半导体在无锡基地实现28纳米工艺良品率超95%，证明国产设备稳定性。

光刻机精度提升体现在多个领域。长春光机所研发的365纳米光源系统应用于医疗设备制造，精度达微米级。广东一家半导体企业使用国产光刻机生产传感器，线宽控制误差小于5纳米。武汉国家集成电路中心展示的14纳米工艺原型机，通过多重曝光技术实现精度飞跃。成都一家科技公司研发的紫外光刻系统，可在6英寸晶圆上制作10纳米结构。