中国生产光刻机多少纳米

中国目前量产的光刻机技术已经达到90纳米工艺水平。上海微电子装备(SMEE)生产的SSA800/10W光刻机能够实现90纳米节点的芯片制造。国内多家芯片制造企业如中芯国际、华虹宏力等已采用国产光刻机生产90纳米工艺的芯片产品。这一技术突破使中国成为继荷兰ASML、日本尼康之后少数能制造光刻机的国家之一。

中国在光刻技术研发上取得多项进展。28纳米工艺的光刻机原型机已完成测试，14纳米技术正处于研发阶段。国家集成电路产业基金大额投入支持光刻技术攻关，中科院微电子研究所、清华大学等机构联合攻关关键部件。上海微电子已交付超过100台光刻机设备，国内28纳米工艺预计2年内实现量产。