国内生产光刻机的企业

国内光刻机研发领域有上海微电子装备有限公司(SMEE)和北方华创微电子装备有限公司。SMEE生产的SSA系列光刻机已达到90纳米工艺节点，广泛应用于LED、MEMS和功率半导体制造。北方华创则专注于深紫外(DUV)光刻机研发，其产品覆盖从365nm到248nm波长范围，支持12英寸晶圆加工。两家企业均获得国家重大科技专项支持，在光刻物镜、工件台等核心部件上取得突破，逐步实现国产替代。

光刻机产业链中，中芯国际、华虹宏力等芯片制造企业也参与光刻技术研发。中芯国际研发的N+1工艺采用国产光刻机，良率达到行业标准的95%。华虹半导体与上海微电子合作开发28nm光刻解决方案，已实现小批量生产。这些企业通过产研结合，在光刻胶、光学系统等配套领域形成完整产业链，推动中国光刻技术从跟跑到并跑，部分领域实现领跑。