光爆层是什么

光爆层是指隧道或地下工程开挖后，围岩表面保留的一层特殊厚度岩体，厚度一般在15到30厘米之间。这层岩体通过精确控制爆破参数形成，既保持围岩稳定性，又减少超挖。光爆层表面平整度高，裂缝少，能有效防止围岩松动。实际工程中，光爆层质量直接影响支护成本和长期安全。钻爆法施工时，周边眼间距、装药量和起爆时序都经过精确计算，确保光爆层形成理想状态。

光爆层施工采用不耦合装药结构，药卷与孔壁间留有空隙。这种装药方式降低爆炸冲击，减少对围岩的破坏。光爆层表面呈半孔痕迹保留状态，保留率达到80%以上。现代隧道工程中，光爆层配合初期支护形成复合式衬砌结构，大幅提高围岩自承能力。数字雷管应用使光爆层成型更加精确，误差控制在3厘米以内。光爆层技术已广泛应用于水电、交通和矿山等地下工程领域。