euv光刻机是多少纳米

EUV光刻机使用13.5纳米极紫外光进行光刻，这是目前最先进的光刻技术。ASML的NXT:2050i和NXT:2100D型号EUV光刻机可以达到3纳米制程节点。这些设备包含超过10万个零件，重量超过180吨，需要40架波音747货机才能运输。台积电、三星和英特尔都使用这类设备生产最先进的芯片。光刻过程中，光源由激光激发锡珠产生，每秒发射5万个脉冲，形成13.5纳米波长的光束。

EUV光刻机的13.5纳米波长是行业选择，因为这个波长的光能被大多数材料吸收，减少散射。光刻机内的反射镜由硅和钼交替镀膜而成，共反射镜片，每片精度达到0.1纳米。光刻机工作时，真空环境压力需低于地球大气层的100亿分之一。一台EUV光刻机售价超过1.5亿欧元，每年维护费用高达数千万欧元。台积电3纳米芯片需要经过超过1000道工序，其中关键步骤依赖EUV光刻技术完成。