pvd涂层是什么工艺

PVD涂层是一种物理气相沉积技术，通过真空环境下将材料蒸发成原子或分子，再沉积在工件表面形成薄膜。这种工艺温度低至300-500摄氏度，适用于金属、陶瓷等多种材料。PVD涂层厚度可达0.5-10微米，硬度提升3-5倍，耐磨性提高10倍以上。常见涂层材料包括钛、铬、氮化钛等，广泛应用于刀具、模具和装饰件。工业生产中，PVD设备每批次可处理数百件工件，涂层均匀度达95%以上。

PVD工艺分为磁控溅射、离子镀和蒸发镀三种主要方式。磁控溅射利用高能离子轰击靶材，沉积速率快，适合大面积工件。离子镀通过等离子体增强附着力，涂层结合强度提高2-3倍。蒸发镀则适用于高纯度薄膜制备，纯度可达99.9%。汽车零件采用PVD涂层后，使用寿命延长3-8倍，维护成本降低40%。电子行业中，PVD技术用于制造半导体薄膜，精度控制在纳米级。