光刻机是什么东西是否含有激光雷达技术

光刻机是制造芯片的核心设备，通过曝光技术将电路图案转移到硅片上。ASML的EUV光刻机使用13.5纳米极紫外光源，配合精密反射镜系统，能实现7纳米以下工艺。尼康的KrF光刻机采用248纳米氟化氪激光，适用于成熟制程。这些设备包含精密光学系统、工件台和光源系统，台积电5纳米制程需要超过1000道光刻步骤。光刻机精度达到纳米级，一台设备价值超过1亿欧元，是半导体产业的关键装备。

光刻机与激光雷达技术属于不同领域。激光雷达通过发射激光束测量距离，用于自动驾驶和环境测绘。光刻机使用特定波长的光源进行曝光，ASML的DUV系统采用193纳米氟化氩激光，而激光雷达常用905或1550纳米波长。光刻机追求的是图案转移精度，激光雷达关注的是测距和点云生成。两种设备的光学系统设计目的不同，光刻机需要大面积均匀照明，激光雷达则需要精确控制光束方向和接收信号。