65纳米芯片需要用光刻机吗

65纳米芯片制造必须使用光刻机。光刻机是芯片生产的核心设备，通过紫外线将电路图案精确转移到硅片上。台积电、英特尔等厂商的65纳米生产线都依赖深紫外光刻机(DUV)。这类光刻机能实现130纳米至90纳米节点的制造，65纳米属于这个范围。没有光刻机，无法完成电路图形的转移，也就无法制造出任何现代芯片。65纳米工艺广泛应用于手机处理器、显卡等电子产品，光刻机是这些产品生产不可或缺的设备。

光刻机精度决定芯片性能。65纳米节点的制造需要数值孔径0.63的193纳米波长光刻机。这种设备能将纳米级电路图案精确复制到硅片上，误差控制在几纳米内。中芯国际的65纳米生产线就使用ASML的Twinscan光刻机。光刻机每次曝光能处理26×33毫米的硅片区域，一块300毫米晶圆上可制作数百个芯片。光刻机性能直接影响芯片良率和功耗，没有高性能光刻机，无法实现65纳米芯片的稳定生产。