光刻机属于什么技术

光刻机是集光学、精密机械、化学材料与电子控制于一体的尖端制造设备。荷兰ASML的EUV光刻机包含超过10万个零件，使用德国蔡司的精密镜头，配合美国Cymer的极紫外光源。工作原理是通过光束将电路图案精确转移到硅片上，最小特征尺寸可达7纳米。这种设备需要超高精度运动控制，定位误差小于原子直径的1/10。光刻技术决定了芯片制造的先进程度，是半导体产业的核心装备。

光刻机代表了人类微纳加工技术的巅峰成就。一台EUV光刻机价值超过1.5亿美元，重达180吨，需要40架波音747飞机运输。其工作环境要求温度波动控制在0.01摄氏度以内，空气振动需控制在纳米级别。光刻过程涉及光刻胶涂覆、软烘、曝光、显影、坚膜等20多道工序，每一步都需严格控制。光刻技术进步推动摩尔定律延续，从90纳米制程发展到现在的3纳米工艺，晶体管密度提升超过100倍。