光刻胶属于什么领域的产品

光刻胶属于半导体材料领域的关键产品，广泛应用于芯片制造过程。光刻胶通过紫外光曝光技术，将电路图案精确转移到硅片表面，是集成电路生产中不可或缺的材料。现代光刻胶可分为g线、i线、KrF、ArF和EUV等多种类型，分别对应不同制程节点的芯片生产需求。台积电、三星等先进晶圆厂每天消耗大量光刻胶，一条7纳米生产线每月需要使用数万升光刻胶材料。

光刻胶也属于精细化工领域的高科技产品，其研发需要化学、光学和材料科学等多学科知识。日本JSR、美国陶氏化学等企业拥有先进的光刻胶生产线，一套年产5000吨的生产线投资超过10亿元人民币。光刻胶配方包含树脂、感光剂和溶剂等20多种成分，生产环境需控制在洁净度ISO 5级以上的车间中。中国华懋科技、南大光电等企业正在加速光刻胶国产化进程，目前已实现部分产品量产。