中国光刻机是多少

中国光刻机技术水平达到90纳米制程，上海微电子装备公司生产的SSA800/10W型号已经实现量产。这款设备采用365nm光源，每小时处理75片晶圆，套刻精度控制在30纳米以内。北京华卓精科研发的光刻机工作台重复定位精度达到2纳米，能满足先进制程需求。中国电子科技集团45所研发的UV光刻机分辨率达到0.35微米，适用于LED芯片制造。这些设备广泛应用于国内半导体生产线，填补了国内空白。

中国光刻机产业链包含200多家核心企业，年产能突破30台套。合肥芯碁微装公司推出的直写式光刻机支持2-5微米线宽，每小时处理90片晶圆。江苏影速光电的激光光刻机精度达到亚微米级别，每小时处理效率120片。广东芯图半导体研发的EUV光刻机原型机已完成关键部件测试，分辨率达到13.5纳米。这些设备覆盖了从LED到先进逻辑芯片的多个应用领域，中国光刻机产业年增长率保持在40以上。