光刻机最早在哪个国家

光刻机最早诞生于美国。1959年，美国德州仪器公司发明了光刻技术，用于制造集成电路。这项技术通过光学投影将电路图案转移到硅片上，开创了微电子制造的新纪元。早期的光刻设备简陋，但奠定了现代芯片制造的基础。美国仙童半导体公司在1960年代初期率先将光刻技术投入商业生产，推动了整个半导体行业的发展。

光刻技术随后在日本得到重大改进。1960年代末至1970年代初，日本企业如尼康和佳能开始研发自己的光刻系统。这些设备提高了精度和效率，使日本在1980年代成为全球半导体制造领导者。日本的光刻机采用步进式技术，能够更精确地复制复杂电路图案，这一创新彻底改变了芯片制造工艺，为后来的微电子技术发展铺平了道路。