现在中国可以自己制造光刻机吗

中国已经能够制造部分光刻机，但最先进的EUV光刻机仍依赖进口。上海微电子生产的90nm光刻机已投入使用，中芯国际的28nm工艺线使用的是DUV光刻设备。华为与中科院合作研发的"DUV光源"技术取得突破，但光刻机需要10万个精密零件，涉及全球5000家供应商，完全自主化仍面临挑战。ASML的EUV光刻机包含10万个零件，来自全球5000多家供应商，中国要在这一领域实现突破，需要整合整个产业链。

光刻机制造涉及材料、光学、精密机械等多领域技术。中国已攻克部分技术难关，如长春光机所的反射镜技术、上海微电子的物镜系统。华虹半导体拥有14nm工艺线，使用国产光刻设备。中科院光电院研发的193nm光源技术达到国际水平。光刻机精度要求极高，ASML的EUV光刻机定位精度达原子级别，中国在这一领域仍需积累经验，但已形成从研发到生产的完整产业链雏形。