可以腐蚀玻璃的化合物

氢氟酸(HF)是少数能腐蚀玻璃的物质之一。实验室中的氟化氢溶液会与玻璃中的二氧化硅(SiO₂)反应生成气态的四氟化硅(SiF₄)，导致玻璃表面出现蚀刻痕迹。浓度超过30%的氢氟酸能在数小时内穿透普通玻璃瓶。工业上，蚀刻玻璃工艺就利用这一特性，在玻璃表面制造出艺术图案或防滑效果。电子制造业也使用氢氟酸清洗硅晶圆表面，去除不需要的氧化层。

氟化铵(NH₄F)溶液同样具备腐蚀玻璃的能力，尤其当它与氢氟酸混合形成缓冲蚀刻液时效果更佳。这种混合液在半导体制造中用于精确控制硅片蚀刻深度，误差可控制在纳米级别。博物馆修复师偶尔会用稀释的氟化铵溶液处理玻璃文物表面的钙化沉积物。值得注意的是，聚四氟乙烯(PTFE)容器因其化学惰性，成为储存这些腐蚀性化合物的理想选择，普通玻璃容器完全不适合。