光刻机最先进多少纳米

当前最先进的光刻机技术已经达到3纳米级别。荷兰ASML公司生产的EUV极紫外光刻机能够实现这一精度，台积电、三星等芯片制造商已使用这类设备生产3纳米芯片。这些设备售价超过1.5亿欧元，重量达180吨，需要40个集装箱运输。3纳米工艺晶体管密度比7纳米提高2倍，性能提升30%，功耗降低50%。

光刻技术发展历程见证了巨大进步。从1947年的微米级，到1980年代的1微米，再到2000年代的90纳米，2010年代的14纳米，直至现在的3纳米。每一代技术进步都推动电子设备性能飞跃。未来2纳米甚至1纳米技术正在研发中，量子隧穿效应成为新挑战。光刻技术进步直接支撑了人工智能、5G通信等前沿领域发展。