时间:09-18人气:28作者:再见旧时光
中国确实拥有光刻机技术,上海微电子已交付90纳米光刻机,中芯国际也能生产28纳米芯片。哈尔滨工业大学研发的深紫外光刻机达到国际先进水平,华卓精科的光刻机双工件台技术打破国外垄断。合肥芯碁微装的直写式光刻机应用于半导体制造,中科院光电院也在积极研发极紫外光刻技术。这些成就显示中国在光刻机领域取得实质性突破。
光刻机产业链在中国逐步完善,江苏、上海、北京形成产业集群。北方华创的刻蚀设备达到7纳米工艺,中微公司5纳米刻蚀机已用于台积电生产线。上海微电子的28纳米光刻机通过验证,无锡华虹的12英寸晶圆厂实现国产化配套。中国每年投入数百亿元支持半导体设备研发,专利数量年增长超过30%。这些进展表明中国光刻机技术正快速追赶国际领先水平。
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