14纳米光刻机能生产几纳米芯片

14纳米光刻机理论上可以生产7纳米芯片，实际生产中能达到5纳米级别。台积电使用这款设备量产了7纳米工艺芯片，英特尔也用它生产了10纳米产品。荷兰ASML的NXT:2050i型号能支持5纳米制程，通过多重曝光技术实现更小线宽。三星电子利用这种设备制造了7纳米LPP工艺，苹果A13仿生芯片就是由这种工艺生产。

14纳米光刻机还能生产3纳米芯片，但需要配合极紫外光刻技术。台积电的5纳米工厂中，部分设备就是从14纳米生产线升级而来。英特尔7纳米工艺实际相当于其他厂商的5纳米水平，使用了这种设备。中芯国际也用14纳米设备试产了7纳米芯片，良率达到85%以上。华为海思设计的麒麟9000S芯片就是采用这种工艺生产。