时间:09-16人气:24作者:耀世红颜
中国目前可以量产7纳米芯片,顶尖企业已实现5纳米工艺突破。长江存储的NAND闪存芯片采用Xtacking架构,达到128层堆叠技术。中芯国际在北京和上海的研发中心已成功试产14纳米芯片,并计划向7纳米以下工艺推进。华为海思设计的麒麟芯片采用7纳米工艺,集成了103亿个晶体管,性能提升20%,功耗降低30%。这些技术突破显示中国芯片制造能力正在快速提升。
中国芯片制造技术发展呈现多路径并行特点。第三代半导体材料如氮化镓和碳化硅已实现产业化,中车集团生产的碳化硅功率器件耐压达到1700伏。光子芯片领域,中国科学院研发的硅基光电子芯片集成度超过1000个器件,传输速率达到100Gbps。量子计算芯片方面,中国科学技术大学已制造出62量子比特的超导芯片,量子比特相干时间达到100微秒。这些非传统芯片技术路线为中国提供了弯道超车的可能性。
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