迁移率一般多大

时间:09-17人气:30作者:自挂东南枝

迁移率在不同材料中差异显著。金属铜的电子迁移率约为35平方厘米/伏特·秒,硅半导体材料中电子迁移率可达1400平方厘米/伏特·秒,砷化镓更是高达8500平方厘米/伏特·秒。石墨烯作为二维材料,展现出惊人的200000平方厘米/伏特·秒迁移率。室温下水的离子迁移率约为8平方厘米/伏特·秒,而空气中的离子迁移率只有2平方厘米/伏特·秒左右。

材料纯度对迁移率影响巨大。超高纯度硅在低温4K条件下,迁移率可提升至10万平方厘米/伏特·秒以上。多晶硅由于晶界散射,迁移率通常不足100平方厘米/伏特·秒。有机半导体如并五苯的迁移率约为1-5平方厘米/伏特·秒,而碳纳米管阵列能达到10000平方厘米/伏特·秒。石墨烯氧化物经过还原处理后,迁移率可从1提升至1000平方厘米/伏特·秒。

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