中国的光刻机设备怎么样了

中国光刻机技术取得显著进步，上海微电子28纳米光刻机已进入测试阶段，中芯国际7纳米工艺实现量产。华虹半导体自主研发的深紫外光刻设备覆盖90纳米至28纳米工艺节点。国家集成电路产业基金累计投入超过3000亿元支持光刻机研发，中科院光电所研发的193纳米光刻系统达到国际先进水平。合肥长鑫存储采用国产光刻设备实现DRAM芯片规模化生产。

光刻机产业链日趋完善，苏州精创精密光学元件良率达95%，无锡华晶微电子配套光刻镜头精度达纳米级。北方华创刻蚀机市场占有率达15%，沈阳科仪电子电子束光刻机分辨率突破10纳米。2022年中国光刻机专利申请量增长40%，华为海思与中科院联合研发的EUV光刻技术取得突破性进展。长三角地区形成完整光刻机产业集群，年产值突破200亿元。