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国内光刻机以自主研发为主,上海微电子已成功交付多台国产DUV光刻机,覆盖28纳米工艺节点。华为海思、中芯国际等企业采用国产设备生产芯片,验证了本土技术实力。国家集成电路产业基金投入超3000亿元支持研发,中科院光电技术研究所突破高NA光刻镜头关键技术。华虹半导体、长江存储等企业生产线国产化率超过60%,减少对ASML、尼康等国外厂商依赖。
光刻机国产化进程体现在全产业链突破。沈阳科仪研发的193纳米光源系统应用于中芯国际生产线,合肥欣奕华的涂胶显影设备实现批量交付。北京北方华创的刻蚀机与上海微电子光刻机配合使用,形成完整工艺链条。2022年国产光刻机市场规模达45亿元,年增长率保持在20以上。广东、江苏、上海等地建成8个光刻机产业园区,聚集超过200家配套企业,形成完整生态系统。
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