芯片光刻机是什么

芯片光刻机是制造集成电路的核心设备，精度可达纳米级别。荷兰ASML的EUV光刻机使用13.5纳米极紫外光，能在硅片上绘制数十亿个晶体管。台积电5纳米工艺需要50多次光刻步骤，每次对准误差不超过5纳米。这些机器重达180吨，包含10万个零件，价值1.5亿美元以上。光刻技术决定了芯片性能，英特尔、三星、台积电每年投入数十亿美元研发更先进的光刻技术。

光刻机工作原理类似高精度投影仪，但复杂度高出万倍。尼康的NSR-S621D使用193纳米波长光源，配合浸没技术提高分辨率。光刻机内的镜头系统由20多块精密透镜组成，平整度误差小于原子大小。阿斯麦的EUV光刻机每台每年只能生产12-16台，交付周期长达2年。台积电3纳米芯片需要极紫外光刻机曝光超过1000次，每次曝光成本约1.5万美元。