抽真空可以达到多大真空度

实验室环境能实现极高真空度，分子泵系统可达到10^-8帕斯卡级别，相当于每立方厘米仅有几十个分子。半导体制造需要10^-9帕斯卡的超高真空，确保芯片工艺不受污染。空间模拟舱的真空度可达10^-12帕斯卡，接近太空环境。工业应用中，真空镀膜设备维持在10^-4帕斯卡左右，足以保证镀层质量。医疗冷冻干燥过程控制在10^-1帕斯卡，使冰直接升华而不融化。

真空度受设备性能限制，扩散泵系统最高达10^-6帕斯卡，离子泵可达10^-11帕斯卡。真空室密封性影响极限，微小漏气会降低真空度。材料表面气体释放也会限制真空提升，不锈钢表面在高温下会释放吸附气体。极端真空环境下，分子平均自由程可达数公里，几乎无分子碰撞。航天器在轨道上维持10^-7帕斯卡真空，接近理想真空状态。