光刻机的概念是什么

光刻机是半导体制造中的核心设备，用于将电路图案精确转移到硅片上。现代光刻机采用深紫外光源，分辨率可达7纳米以下。荷兰ASML的EUV系统集成了超过10万个零件，精度达到原子级别。光刻过程包括涂胶、曝光、显影等步骤，每一步都需要严格控制环境条件。光刻机的价值超过1.5亿美元，是芯片工厂中最昂贵的设备之一。

光刻机的工作原理类似高精度投影仪，但技术复杂度高出千倍。光源通过掩膜版将电路图案缩小后投射到硅片上。一台先进光刻机每天能处理数百片晶圆，每片晶圆包含数百个芯片。光刻机的振动控制需达到皮米级，相当于原子直径的千分之一。环境温度变化必须控制在0.01摄氏度以内，确保图案转移精度。