时间:09-16人气:21作者:紷紷豬
国产光刻机目前能生产90纳米至28纳米工艺的芯片,这些技术广泛应用于物联网设备、汽车电子、工业控制系统等领域。中芯国际、华虹宏力等企业使用国产DUV光刻机量产28纳米芯片,满足国内消费电子、智能家居等市场需求。14纳米工艺已在研发阶段,预计两年内实现量产。国产光刻机还能生产MEMS传感器、功率半导体等特色工艺芯片,这些产品在医疗设备、新能源系统中发挥重要作用。
国产光刻机支持多种特殊制程,包括硅基功率器件、化合物半导体芯片的生产。这些芯片在5G基站、光伏逆变器、高铁控制系统等关键基础设施中不可或缺。华大半导体等企业利用国产设备生产车规级MCU芯片,年产能超过10亿颗。国产光刻机还能制造射频芯片、MEMS传感器等高附加值产品,这些技术填补了国内空白,减少对进口设备的依赖。
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