时间:09-17人气:13作者:雨中旳紙鶴
中国已掌握28纳米光刻机技术,上海微电子装备公司成功研发SSA800/10W光刻机,应用于中芯国际生产线。华为与中科院合作推进14纳米EUV光刻技术,中科院光电所研发的深紫外光刻机达到量产标准。长江存储采用国产光刻机生产64层3D NAND闪存,合肥长鑫使用国产设备制造DRAM芯片。这些设备覆盖IC制造、LED生产、MEMS加工等领域,满足国内半导体产业70%以上的需求。
光刻机产业链日益完善,福晶科技提供光学元件,福晶科技提供光学元件,北方华创蚀刻机市占率达35%,中微公司5纳米刻蚀机台通过认证。上海微电子的先进封装光刻机精度达2微米,华卓精科的光刻机双工件台技术打破国外垄断。2022年中国光刻机市场规模突破200亿元,年增长率保持在25以上,专利申请量全球占比提升至18,技术自主化进程加速推进。
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