国内量产的光刻机是多少纳米的

国内量产的光刻机已达到90纳米工艺水平。上海微电子装备公司生产的SSA800/10W光刻机能够实现这一精度，广泛应用于中芯国际、华虹宏力等晶圆厂。这款设备采用365nm波长光源，支持200毫米晶圆加工，每小时可完成60片晶圆的曝光。90纳米节点能满足多种芯片制造需求，包括MCU、电源管理芯片等。

光刻机技术持续进步，国内28纳米工艺光刻机研发取得突破。中科院光电技术研究所的"光刻机光源系统"项目已实现193nm波长光源稳定输出，为更先进制程奠定基础。中芯北京工厂已开始试产28纳米芯片，采用ASML的DUV光刻机配合国产辅助设备。这一水平覆盖了大部分消费电子芯片需求，包括高端处理器、射频芯片等。