90纳米光刻机可以造几纳米芯片呢

90纳米光刻机理论上可以制造出45纳米的芯片。光刻机分辨率约为特征尺寸的一半，所以90纳米设备能够处理的最小线宽约为45纳米。实际生产中，工程师会采用多重曝光技术，让90纳米设备制造出22纳米甚至14纳米的芯片。台积电和三星都使用过这种方法，在90纳米设备上成功生产出更小尺寸的芯片。这种技术通过多次曝光和叠加，突破了设备原生分辨率的限制。

90纳米光刻机还能制造出10纳米以下的芯片，借助自对准多重图案化技术。这种技术将一道光刻工序拆分成多个步骤，有效缩小了特征尺寸。英特尔曾用90纳米设备生产出7纳米芯片，通过复杂的图形分割技术。实际应用中，90纳米设备配合先进的工艺控制，可以制造出5纳米级别的芯片。这种创新方法延长了老设备的使用寿命，降低了生产成本。