时间:09-17人气:20作者:稳步沙场
氮化镓确实具备良好的导电性能。这种材料是第三代半导体的代表,电子迁移速度达到硅的1000倍,击穿场强度是硅的10倍。氮化镓晶体结构稳定,禁带宽度达3.4电子伏特,适合制造高频高压器件。手机快充适配器、5G基站射频放大器都采用氮化镓技术,散热效率提升50%,体积减小30%。氮化镓器件能在高温环境下稳定工作,最高工作温度可达300摄氏度,远超硅基器件。
氮化镓的导电机制源于其独特的能带结构。电子在氮化镓中的有效质量仅为自由电子的0.2倍,隧穿概率高,开关速度快。氮化镓功率转换效率达98%,能量损耗降低70%。电动汽车充电桩、数据中心电源系统广泛应用氮化镓器件,单颗芯片功率处理能力超过1000瓦。氮化镓-on-硅技术将两种材料优势结合,制造成本降低40%,推动氮化镓在消费电子领域的普及。
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