蚀刻机和光刻机有关系吗

蚀刻机和光刻机在半导体制造中紧密配合。光刻机将电路图案精确转移到晶圆表面，形成保护层。蚀刻机随后去除未被保护的区域，留下电路结构。两者缺一不可，光刻精度决定电路最小尺寸，蚀刻均匀性影响器件性能。先进工艺中，光刻机使用极紫外光源，蚀刻机采用等离子体技术，共同实现7纳米以下节点制造。

蚀刻机和光刻机工作原理截然不同。光刻机通过光学系统投影图案，类似高级投影仪。蚀刻机利用化学或物理方法去除材料，分为湿法蚀刻和干法蚀刻。现代生产线中，光刻机价值数千万美元，蚀刻机单价也在千万级别。一条5纳米产线包含50多台光刻机和100多台蚀刻机，两者数量比例约1:2，体现蚀刻步骤的复杂性。