光刻胶水是什么

光刻胶水是一种特殊感光材料，用于微电子制造中精确转移电路图案。这种胶水在紫外光照射下会发生化学变化，形成耐腐蚀的保护层。现代芯片生产中，光刻胶水需要具备高分辨率、良好附着力和稳定性。5纳米制程工艺中，光刻胶水厚度控制在50纳米以下，确保电路线条清晰。光刻胶水分为正性和负性两种，前者曝光区域溶解，后者曝光区域固化。光刻胶水质量直接影响芯片良率，顶级厂商会研发专用配方提升性能。

光刻胶水应用不仅限于芯片制造，还延伸到印刷电路板、微机电系统等领域。光刻胶水配方包含树脂、感光剂和溶剂，三者比例决定最终性能。光刻胶水涂覆后需经软烘烤去除溶剂，曝光后再进行显影和硬烘烤。先进制程要求光刻胶水能承受多重刻蚀和离子注入工艺。光刻胶水研发需要跨学科知识，涉及高分子化学、光学和材料科学。光刻胶水供应链高度集中，全球仅有少数企业能生产高端产品。