光刻机最先出自哪个国家

光刻机最早诞生于美国，1959年Fairchild Semiconductor公司开发了首台光刻设备，用于半导体制造。这项技术随后被德州仪器、英特尔等美国公司进一步发展。1970年代，美国公司如GCA和Perkin-Elmer成为光刻机市场的主导者，设备精度达到微米级别。美国在这一领域的技术积累为后来的芯片产业奠定了基础。

荷兰ASML公司在1984年成立后逐渐崛起，通过整合美国、德国等国的技术优势，在1990年代后期成为光刻机行业的领导者。如今，ASML的极紫外光刻机代表了全球最高水平，但技术根源可追溯至美国早期的半导体研究。美国斯坦福大学和麻省理工学院的研究成果也为现代光刻技术提供了重要理论基础。