时间:09-17人气:28作者:蓝樱浅蝶
荷兰ASML公司生产的光刻机能够制造7纳米及以下制程的芯片。这些高端设备采用极紫外光(EUV)技术,通过波长仅为13.5纳米的光线进行曝光。台积电、三星和英特尔等芯片制造商使用这些机器生产5纳米、3纳米甚至更先进的芯片。一台EUV光刻机包含超过10万个零件,重量达180吨,售价超过1.5亿美元。
光刻机的精度决定了芯片的线宽,7纳米制程意味着芯片上晶体管的间距仅为7纳米。ASML的NXT:2050i型号光刻机每小时可处理275片晶圆,每片晶圆上可制造数百个处理器。这些设备需要在无尘环境中运行,振动幅度必须控制在纳米级别。荷兰光刻技术使全球芯片行业得以突破物理极限,推动计算能力每两年翻一番的摩尔定律持续生效。
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