国内量产的光刻机是多少纳米

国内量产的光刻机技术已达到90纳米工艺节点。上海微电子装备公司生产的SSA800/10W光刻机可实现90纳米制程，广泛应用于MEMS、LED等领域。该设备采用365nm波长光源，支持200毫米晶圆加工，每小时产能达到60片。北京华卓精科也有90纳米光刻机产品线，满足国内半导体产业基础需求。

光刻机技术发展呈现阶梯式进步。中芯国际28纳米光刻产线已实现量产，采用ASML及国产设备的组合方案。长江存储的64层NAND闪存生产线使用国产深紫外光刻设备，工艺精度达到30-40纳米区间。合肥长鑫的DRAM生产线采用193nm光源光刻机，技术节点接近40纳米水平，显示国内光刻机技术的持续突破。