可以生产光刻机的国家

全球范围内，具备光刻机生产能力的国家屈指可数。荷兰的ASML公司垄断了EUV极紫外光刻机市场，这种设备精度达到13纳米以下，台积电、三星和英特尔都依赖它生产先进芯片。日本佳能和尼康则专注于DUV深紫外光刻机，覆盖28纳米到7纳米制程，中芯国际等企业使用这类设备。美国应用材料公司提供光刻机的关键部件，如光源系统和光学镜头，这些组件对设备性能至关重要。中国上海微电子装备公司已研发出90纳米光刻机，正在向28纳米技术节点迈进。

光刻机制造需要多国技术协作。德国蔡司公司生产最先进的光学镜头，精度误差控制在原子级别，这些镜头直接决定光刻分辨率。韩国三星已能自主生产部分DUV光刻机部件，减少对外国供应商的依赖。新加坡的电子产业生态链完善，为光刻机制造提供精密加工和测试服务。以色列的Bito公司提供先进的光刻胶材料，直接影响芯片图案的清晰度。俄罗斯在极紫外光源领域有独特技术，虽然尚未形成完整光刻机产品，但相关研究成果被国际巨头采用。