光刻机属于什么

光刻机是半导体制造的核心设备，属于精密光学机械系统。这类机器将电路图案转移到硅片上，精度达到纳米级别。荷兰ASML的EUV光刻机包含超过10万个零件，使用极紫外光源。台积电、三星等芯片厂依赖光刻机生产5纳米以下芯片。光刻机整合了光学、精密控制和真空技术，价格超过1.5亿美元。日本尼康和佳能也生产DUV光刻机，用于成熟制程芯片制造。

光刻机归类为高科技工业母机，是国家战略物资。美国限制ASML向中国出口EUV光刻机，影响中国芯片产业发展。中国上海微电子研发的28纳米光刻机已通过验收，打破国外垄断。光刻机技术涉及物理、化学、材料等多学科，研发周期超过10年。全球光刻机市场被ASML垄断，份额超过70%。光刻机性能直接决定芯片制程节点，影响电子产品性能。