ald是什么工艺

ALD是原子层沉积技术，一种精密的薄膜制备工艺。这项技术通过交替通入前驱体气体，在基底表面形成单原子层，层层叠加达到所需厚度。ALD工艺在半导体行业广泛应用，用于制造晶体管栅极介质层、DRAM电容和3D NAND堆叠结构。医疗领域也采用ALD涂层技术，提高人工关节和植入物的生物相容性。ALD薄膜均匀性可达原子级别，即使在复杂表面也能实现完美覆盖。

ALD工艺具备低温优势，可在200摄氏度以下进行，适合处理热敏感材料。太阳能电池生产中，ALD技术用于沉积透明导电氧化物和阻挡层，提升光电转换效率。LED照明产业采用ALD工艺制作反射层和电流分散层，增强亮度均匀性。ALD薄膜致密性极高，能有效阻隔水氧渗透，延长电子器件使用寿命。这项技术还能精确控制薄膜厚度误差在1埃以内，满足纳米级精密制造需求。