pvd是什么工艺

PVD是物理气相沉积工艺，通过物理方法在真空环境中将材料气化并沉积在工件表面。这种工艺广泛应用于刀具涂层、装饰膜层和功能性薄膜。PVD技术能在500°C以下工作，适用于多种基材。工艺流程包括抽真空、离子清洗、靶材溅射和沉积四步。PVD涂层厚度可达0.1-5微米，硬度可达HV2000-4000，耐磨性比普通电镀提高3-8倍。汽车零件、手表外壳和手机背板都采用PVD处理，呈现出金属光泽和持久颜色。

PVD工艺分为溅射镀膜和电弧镀膜两大类。溅射镀膜膜层均匀致密，适合精密光学元件；电弧镀膜沉积速度快，适合工业大批量生产。PVD涂层具有优异的耐腐蚀性，盐雾测试可达500-1000小时不生锈。环保性方面，PVD不含六价铬等有害物质，完全符合欧盟RoHS标准。PVD设备投资回收期约12-18个月，长期使用比传统电镀节省成本30-50%。现代PVD技术已实现多靶材共溅射，可在单次工艺中复合多种金属元素，获得特殊性能的合金涂层。