28纳米光刻机能生产多少纳米芯片

28纳米光刻机能够生产14纳米至7纳米范围的芯片。这种设备通过多重曝光技术，将原本28纳米的工艺线宽缩小一半甚至更小。台积电和三星使用这类设备量产了10纳米和7纳米芯片，苹果A12和骁龙855处理器就是典型案例。多重曝光让28纳米设备突破了物理限制，实现了更小制程的生产目标。

28纳米光刻机也能生产28纳米至20纳米的标准芯片。英特尔22纳米工艺和联电28纳米产品线都采用这种设备制造。物联网芯片、电源管理芯片和部分FPGA产品多使用这个制程范围。这类芯片对功耗要求不高，但需要稳定的生产工艺和较低的成本，28纳米光刻机正好满足这些需求。