光刻机用来干嘛的

光刻机是芯片制造的核心设备，负责将电路图案精确转移到硅片上。一台先进光刻机包含光源系统、掩模台和投影镜头，能实现纳米级精度。荷兰ASML的EUV光刻机使用13.5纳米极紫外光，每小时可处理200片晶圆。这些设备价值超过1.5亿美元，是现代电子产业的基础。没有光刻机，智能手机、电脑和医疗设备中的精密芯片都无法生产。

光刻机工作原理类似高科技投影仪，但精度提高1000倍。紫外光通过掩模版照射涂有光刻胶的晶圆，经过显影形成微细电路。台积电的5纳米工艺需要使用多重曝光技术，每片晶圆要经历20多道光刻步骤。光刻技术进步直接推动芯片集成度提升，从1970年代的1000个晶体管到现代芯片的100亿个，完全依赖光刻机精度的不断提高。