透射电镜薄膜样品的要求

透射电镜薄膜样品需要厚度控制在50-200纳米之间，过厚会导致电子束无法穿透，过薄则无法获得清晰图像。样品必须表面平整，无污染、无氧化层，且保持原始晶体结构。制备过程需避免机械损伤，离子减薄时参数要精确控制，防止引入缺陷。高纯度材料是基础，杂质会干扰成像结果。样品尺寸通常为3毫米直径圆片，边缘需倒角处理，防止电场集中。

透射电镜样品要求导电性好，非导电材料需镀碳膜或金膜。样品架兼容性很重要，标准3毫米铜网或微栅网格是常见选择。电子束敏感材料需在低温下观察，减少损伤。样品区域需均匀，厚度差异超过10%会影响成像质量。晶体取向分析时，样品需精确取向，偏差控制在2度以内。多相材料需确保各相都能被观察，界面区域要特别处理。