中国光刻机多少纳米量产

中国光刻机目前量产的最先进技术是90纳米工艺。上海微电子装备有限公司生产的SSA800/10W光刻机已经实现这一技术节点的稳定量产，该设备可用于8英寸晶圆的生产。90纳米工艺满足了国内多数芯片制造需求，包括MCU、电源管理芯片等。中芯国际、华虹宏力等晶圆厂已采用国产光刻机进行90纳米节点的批量生产，年产能可达数十万片。

28纳米工艺的光刻机研发取得突破，上海微电子的SSA600/20W设备已进入客户验证阶段。该设备采用双工件台技术，分辨率达到38纳米，满足28纳米工艺需求。长江存储、合肥长鑫等存储芯片厂商已开始测试国产28纳米光刻机，预计2024年实现小批量量产。国产光刻机从90纳米到28纳米的跨越，标志着中国半导体设备制造业的重要进步。