研磨盘光洁度能达到多少

现代工业研磨盘光洁度可达纳米级别，高精度研磨工艺可实现Ra 0.008μm的表面粗糙度。半导体制造领域使用的金刚石研磨盘能达到原子级平整度，表面起伏不超过几个原子层。光学镜片研磨盘表面粗糙度可控制在0.01μm以下，满足激光系统的严格要求。精密模具研磨后表面光洁度可达Ra 0.012μm，确保产品脱模顺畅。

研磨盘材质决定最终光洁度，单晶金刚石研磨盘可实现Ra 0.005μm的表面质量。陶瓷结合剂CBN研磨盘加工硬质合金时能达到Ra 0.02μm的表面光洁度。电解研磨配合特殊电解液，可获得Ra 0.003μm的超光滑表面。超声波辅助研磨技术使铝材表面光洁度达到Ra 0.008μm，无划痕无变质层。